ZetaAPS 粒度及 Zeta 電位分析儀在有色樣品中的應(yīng)用展現(xiàn)了顯著的技術(shù)優(yōu)勢(shì)，其核心在于采用聲衰減光譜技術(shù)和多頻電聲測(cè)量，避免了傳統(tǒng)光學(xué)方法受顏色干擾的局限。以下從技術(shù)原理、實(shí)際應(yīng)用和操作優(yōu)勢(shì)三方面展開說(shuō)明：

一、技術(shù)原理與抗干擾機(jī)制

聲衰減光譜技術(shù)
ZetaAPS 通過(guò)測(cè)量 1-100 MHz 頻率范圍內(nèi)的聲衰減信號(hào)來(lái)分析顆粒粒度分布。聲波穿透能力強(qiáng)，不受樣品顏色或光吸收的影響，即使是高濃度（如 60% 體積比）、不透明或深色樣品（如炭黑、TiO?漿料）也能直接測(cè)量，無(wú)需稀釋。例如，在鋰電池陰極材料的研究中，聲衰減技術(shù)測(cè)得的粒度分布比掃描電鏡（SEM）更具統(tǒng)計(jì)代表性，且避免了稀釋導(dǎo)致的顆粒團(tuán)聚風(fēng)險(xiǎn)。

多頻電聲 Zeta 電位測(cè)量
該技術(shù)通過(guò)檢測(cè)顆粒在電場(chǎng)中的振動(dòng)響應(yīng)計(jì)算 Zeta 電位，無(wú)需依賴雙電層模型或光學(xué)信號(hào)。對(duì)于有色樣品（如染料溶液或金屬納米顆粒），其表面電荷性質(zhì)可直接通過(guò)電聲信號(hào)反映，不受顏色導(dǎo)致的光散射干擾。

二、典型應(yīng)用領(lǐng)域與案例

以下胤煌科技實(shí)驗(yàn)室為某企業(yè)做的一個(gè)深顏色樣本檢測(cè)案例

稀釋對(duì)傳統(tǒng)設(shè)備的檢測(cè)結(jié)果可能造成系統(tǒng)性偏差。DLS檢測(cè)結(jié)果粒徑高估（偏差>50%）、分布展寬。光阻法檢測(cè)造成顆粒計(jì)數(shù)缺失、分布失真。而 ZetaAPS 通過(guò)無(wú)需稀釋、抗顏色干擾、多參數(shù)同步檢測(cè)，從根本上避免了這些問(wèn)題，為深色復(fù)雜體系提供了更可靠的表征手段。

 ZetaAPS粒度及Zeta電位分析儀

深顏色樣品

第一次測(cè)試數(shù)據(jù)

第二次測(cè)試數(shù)據(jù)

 平行測(cè)試2次數(shù)據(jù)差異較小，平行性較好

ZetaAPS 通過(guò)聲衰減光譜技術(shù)和多頻電聲測(cè)量，解決了深顏色、高濃度樣品的檢測(cè)難題。在胤煌科技實(shí)驗(yàn)室的技術(shù)支持下，通過(guò)精準(zhǔn)的顆粒特性分析，推動(dòng)了樣品工業(yè)化應(yīng)用。這一案例充分體現(xiàn)了 ZetaAPS 在無(wú)需稀釋、抗干擾、多參數(shù)同步檢測(cè)方面的優(yōu)勢(shì)，為化工、環(huán)保等領(lǐng)域的復(fù)雜體系分析提供了創(chuàng)新范式。

三、操作優(yōu)勢(shì)與樣品兼容性

無(wú)需稀釋與預(yù)處理
傳統(tǒng)光散射方法需稀釋樣品以降低吸光度，可能改變顆粒表面電荷狀態(tài)。ZetaAPS 允許直接測(cè)量高濃度（0.1-60% 體積比）、高粘度或非水體系，例如原油、煤漿等深色樣品。此外，其攪拌或泵送系統(tǒng)可避免顆粒沉降，確保測(cè)量準(zhǔn)確性。

多參數(shù)同步檢測(cè)

除粒度和 Zeta 電位外，儀器還可實(shí)時(shí)測(cè)量 pH、電導(dǎo)率、溫度和聲速等參數(shù)。例如，在 CMP 漿料分析中，結(jié)合 Zeta 電位與電導(dǎo)率數(shù)據(jù)可更全面評(píng)估顆粒 - 溶液相互作用。

硬件設(shè)計(jì)優(yōu)化

鍍金浸入式探頭：適用于獨(dú)立容器或樣品池，減少污染風(fēng)險(xiǎn)，尤其適合貴重或易變質(zhì)的有色樣品（如生物膠體）。

自動(dòng)滴定功能：快速定位等電點(diǎn)（IEP），例如在涂料分散體系中，通過(guò)滴定曲線可直觀顯示 pH 對(duì) Zeta 電位的影響，指導(dǎo)配方優(yōu)化。

四、總結(jié)

ZetaAPS 通過(guò)聲衰減和電聲技術(shù)，有效解決了有色樣品的光干擾問(wèn)題，在納米材料、化工、環(huán)境等領(lǐng)域展現(xiàn)了廣泛應(yīng)用價(jià)值。其無(wú)需稀釋、多參數(shù)同步檢測(cè)的特點(diǎn)，為高濃度、深色或復(fù)雜體系的顆粒表征提供了可靠方案。無(wú)論是實(shí)驗(yàn)室研究還是工業(yè)生產(chǎn)，ZetaAPS 均能快速、準(zhǔn)確地提供粒度分布和 Zeta 電位數(shù)據(jù)，助力材料性能優(yōu)化與工藝控制。